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| MOQ: | 1 킬로그램 |
| 가격: | US $50/kg |
| 표준 포장: | 실린더/탱크 |
| 배송 기간: | 15일 |
| 결제 방법: | L/C, T/T |
| 공급 능력: | 5000 킬로그램 / 달 |
질소 삼중화수소 가스 (Nitrogen trifluoride gas, NF3) 는 질소와 플루로인으로 구성된 화학 화합물이다.여기 질소 트리플루오라이드 가스에 대한 몇 가지 핵심 사항이 있습니다:
형성: 질소 트리플루오라이드는 일반적으로 질소 가스 (N2) 와 플루오르 가스 (F2) 의 반응으로 생성됩니다. 반응은 다음과 같이 나타낼 수 있습니다.
N2 ((g) + 3F2 ((g) → 2NF3 ((g)
물리적 특성: 질소 삼화화화물은 정상적인 온도와 압력에서 안정적인 불화성 가스이다. 끓는 온도는 -129.1 ° C (-204.4 ° F) 이며 녹는 온도는 -206이다.6 °C (-339.9 ° F). 방온에서 대부분의 금속, 비금속 및 일반적인 재료와 반응하지 않습니다.
화학적 특성: 질소 삼화화물 은 강력 한 산화 물질 이며 매우 반응력 이 강하다. 공기 안의 수증기 와 쉽게 반응 하여 질소 이산화 (NO2) 와 수화산 (HF) 을 생성 한다.또한 알칼리 금속과 금속 하이드 등 다양한 다른 화합물과 반응할 수 있습니다.
용도: 질소 트리플루오라이드는 여러 산업용 용도로 사용된다.그것은 주로 전자 산업에서 반도체 생산 중에 실리콘 웨이퍼를 청소하고 에치하는 플라즈마 에치 가스로 사용됩니다.또한 전자 부품 제조에 사용되는 장비의 내부 표면에서 잔류를 제거하는 청소제로 사용됩니다.NF3는 특수 화학 물질의 생산에 사용됩니다., 냉각물질로, 그리고 일부 리?? 이온 배터리.
환경 영향: 질소 트리플루오라이드는 지구 온난화 잠재력이 높은 강력한 온실 가스입니다.그 GWP 는 100 년 동안 이산화탄소 (CO2) 보다 훨씬 높습니다.NF3는 대기 중에서는 상대적으로 안정적이며 대기 내의 수명이 길으며 기후 변화에 대한 잠재적 영향에 기여합니다.질소 트리플루오라이드 배출량을 감시하고 줄이기 위해 노력 중이며,.
유연성 질소 삼화화물 가스를 취급하는 경우 주의해야 합니다.적절한 보호장비의 사용 및 취급 지침을 준수하는 것, 따라야 합니다.
기본 정보
| 운송 패키지: | 47L, 440L | 녹는점 | -206.79oC |
| 상표: | CMC | 끓는점 | -129.0oC |
| 사양 | 990.99%, 99.996% | 생산용량 | 5000m3/년 |
| 실린더 압력 | 15MPa/20MPa | 밸브 | 디스640 |
| 외모 | 무색, 무취 | 밀도 | 2.96kg/m3 |
사양:
| 사양 | 회사 표준 |
| NF3 | ≥ 99.996% |
| CF4 | ≤20ppm |
| N2 | ≤5ppm |
| O2+AR | ≤3ppm |
| CO | ≤1ppm |
| CO2 | ≤0.5ppm |
| N2O | ≤1ppm |
| SF6 | ≤2ppm |
| 수분 | ≤1ppm |
| HF로 표현 | ≤1ppm |
자세한 사진
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| MOQ: | 1 킬로그램 |
| 가격: | US $50/kg |
| 표준 포장: | 실린더/탱크 |
| 배송 기간: | 15일 |
| 결제 방법: | L/C, T/T |
| 공급 능력: | 5000 킬로그램 / 달 |
질소 삼중화수소 가스 (Nitrogen trifluoride gas, NF3) 는 질소와 플루로인으로 구성된 화학 화합물이다.여기 질소 트리플루오라이드 가스에 대한 몇 가지 핵심 사항이 있습니다:
형성: 질소 트리플루오라이드는 일반적으로 질소 가스 (N2) 와 플루오르 가스 (F2) 의 반응으로 생성됩니다. 반응은 다음과 같이 나타낼 수 있습니다.
N2 ((g) + 3F2 ((g) → 2NF3 ((g)
물리적 특성: 질소 삼화화화물은 정상적인 온도와 압력에서 안정적인 불화성 가스이다. 끓는 온도는 -129.1 ° C (-204.4 ° F) 이며 녹는 온도는 -206이다.6 °C (-339.9 ° F). 방온에서 대부분의 금속, 비금속 및 일반적인 재료와 반응하지 않습니다.
화학적 특성: 질소 삼화화물 은 강력 한 산화 물질 이며 매우 반응력 이 강하다. 공기 안의 수증기 와 쉽게 반응 하여 질소 이산화 (NO2) 와 수화산 (HF) 을 생성 한다.또한 알칼리 금속과 금속 하이드 등 다양한 다른 화합물과 반응할 수 있습니다.
용도: 질소 트리플루오라이드는 여러 산업용 용도로 사용된다.그것은 주로 전자 산업에서 반도체 생산 중에 실리콘 웨이퍼를 청소하고 에치하는 플라즈마 에치 가스로 사용됩니다.또한 전자 부품 제조에 사용되는 장비의 내부 표면에서 잔류를 제거하는 청소제로 사용됩니다.NF3는 특수 화학 물질의 생산에 사용됩니다., 냉각물질로, 그리고 일부 리?? 이온 배터리.
환경 영향: 질소 트리플루오라이드는 지구 온난화 잠재력이 높은 강력한 온실 가스입니다.그 GWP 는 100 년 동안 이산화탄소 (CO2) 보다 훨씬 높습니다.NF3는 대기 중에서는 상대적으로 안정적이며 대기 내의 수명이 길으며 기후 변화에 대한 잠재적 영향에 기여합니다.질소 트리플루오라이드 배출량을 감시하고 줄이기 위해 노력 중이며,.
유연성 질소 삼화화물 가스를 취급하는 경우 주의해야 합니다.적절한 보호장비의 사용 및 취급 지침을 준수하는 것, 따라야 합니다.
기본 정보
| 운송 패키지: | 47L, 440L | 녹는점 | -206.79oC |
| 상표: | CMC | 끓는점 | -129.0oC |
| 사양 | 990.99%, 99.996% | 생산용량 | 5000m3/년 |
| 실린더 압력 | 15MPa/20MPa | 밸브 | 디스640 |
| 외모 | 무색, 무취 | 밀도 | 2.96kg/m3 |
사양:
| 사양 | 회사 표준 |
| NF3 | ≥ 99.996% |
| CF4 | ≤20ppm |
| N2 | ≤5ppm |
| O2+AR | ≤3ppm |
| CO | ≤1ppm |
| CO2 | ≤0.5ppm |
| N2O | ≤1ppm |
| SF6 | ≤2ppm |
| 수분 | ≤1ppm |
| HF로 표현 | ≤1ppm |
자세한 사진
