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CVD 표면 처리 응용 프로그램에서의 전구 가스, 실린더 가스 텅스텐 헥사플루오라이드

CVD 표면 처리 응용 프로그램에서의 전구 가스, 실린더 가스 텅스텐 헥사플루오라이드

MOQ: 1개
가격: US $ 15/PC
표준 포장: 실린더/탱크
배송 기간: 15일
결제 방법: L/C, T/T
공급 능력: 연간 200 톤
상세 정보
원래 장소
중국
브랜드 이름
CMC
인증
COA
모델 번호
Wf6
제품 이름:
육불화텅스텐
수송:
선편으로 발송해 주세요
도트 클래스:
2.3
순수성:
99.999%
모델 번호:
육불화텅스텐
운송 패키지:
해상 수송
사양:
10L/15kg
상표:
CMC
원산지:
스초우, 중국
CAS 번호:
7783-82-6
방식:
Wf6
EINECS:
232-029-1
요소:
산업용 순수 공기
등급기준:
공업적 등급
화학적 특성:
연소 지원 가스
사용자 정의:
가능 | 맞춤형 요청
최소 주문 수량:
1개
가격:
US $ 15/PC
포장 세부 사항:
실린더/탱크
배달 시간:
15일
지불 조건:
L/C, T/T
공급 능력:
연간 200 톤
강조하다:

CVD 표면처리 전기 가스

,

실린더 가스 텅프렌 헥사플루오라이드

,

텅프렌 헥사플루오라이드 전기 가스

제품 설명

CVD 표면 처리 응용 프로그램의 전구 가스 울프렌 헥사플루오라이드

텅스텐 헥사플루오라이드 (WF6) 는 텅스텐 원자 1개와 플루오린 원자 6개로 구성된 화학 화합물이다. 무색, 부식성 기체로 날카로운 냄새가 있다.텅프렌 헥사플루오라이드는 반응성이 매우 높고 물이나 공기 안의 수분과 격렬하게 반응할 수 있습니다.독성 수소 플루오라이드 가스를 방출합니다.

울프스탄 헥사플루오라이드의 응용 분야는 반도체 제조 공정에서 울프스탄 필름을 퇴적하는 전초 물질로 사용하는 것을 포함한다.그것은 일반적으로 화학 증기 퇴적 (CVD) 기술에서 다양한 응용을위한 텅스텐의 얇은 필름을 만드는 데 사용됩니다., 예를 들어 통합 회로 제조 및 얇은 필름 코팅. 텅스텐 헥사플루오라이드는 높은 증기 압력으로 인해 이러한 프로세스에서 선호되며 효율적인 퇴적을 허용합니다.

그러나 울프레멘 헥사플루오라이드를 반응성과 독성성 때문에 조심스럽게 취급하고 보관하는 것이 중요합니다. 적절한 안전 조치,적절한 보호장비와 처리 절차를 사용하는 것을 포함합니다.이 화합물과 함께 작업 할 때 준수해야합니다.

기본 정보
제품의 COA:
 
테스트 항목 단위 품질 요구 사항 시험 결과
CF4 ppm <0.5 <0.01
O2 ppm <0.5 <0.01
N2 ppm < 1 0.03
CO ppm <0.5 <0.02
CO2 ppm <0.5 <0.01
SiF4 ppm <0.5 <0.1
SF6 ppm <0.5 <0.1
HF ppm <5 0.19
ppb ≤10 <0.020
그 외 ppb ≤10 <0.001
B ppb ≤10 <0.005
CA ppb ≤5 <0.200
Cd ppb ≤2 <0.001
Cr ppb ≤10 <0.020
ppb ≤10 <0.007
K ppb ≤5 <0.100
ppb ≤10 <0.001
ppb ≤5 <0.040
제3회 ppb ≤0.1 <0.001
ppb ≤10 <0.002
ppb ≤10 <0.002
U ppb ≤0.05 <0.001
Zn ppb ≤10 <0.005
ppb ≤10 <0.100
Pb ppb ≤10 <0.001
P ppb ≤2 <0.300
Mg ppb ≤10 <0.020
ppb ≤20 <0.030
ppb ≤5 <0.005
ppb ≤10 <0.001
다른 금속의 누적 불순물 ppb ≤ 500 <0.0010
제품 사양:

텅프렌 헥사플루오라이드 WF6 가스
CAS 번호: 7783-82-6
EINECS 번호: 232-029-1
UN 제2196
순수: 99.999%
점급: 2.3
외형: 무색
등급 표준: 전자 등급,산업 등급

자세한 사진
                                   CVD 표면 처리 응용 프로그램에서의 전구 가스, 실린더 가스 텅스텐 헥사플루오라이드 0
 
회사 프로파일

Semiconductor Industry Electronic Grade Wf6 Tungsten Hexafluoride Wf6 Gas

상하이 케미케 화학 회사, Ltd는 훈련 된 인력으로 구성되어 있으며, 가스 산업에서 오랜 경험을 결합합니다. 우리는 실린더 가스, 전자 가스 등을 공급하고 있습니다.밸브 및 픽팅 및 기타 장비, 부품 및 엔지니어링 서비스를 중국 및 전 세계 우리의 고객에게; 제품은 반도체 칩, 태양전지, LED, TFT-LCD, 광섬유,유리, 레이저, 의약품 등, 우리의 임무는 혁신적인, 신뢰할 수 있고 안전한 지원, 솔루션 및 품질 제품을 제공하기 위해 글로벌 고객과 파트너십을 맺는 것입니다.
우리의 제품은 주로: H2, O2, N2, Ar, CO2, 프로판, 아세틸렌, 헬륨, 레이저 혼합 가스, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, 도핑 혼합 가스 (TMB, PH3,B2H6) 및 기타 전자 가스.
Semiconductor Industry Electronic Grade Wf6 Tungsten Hexafluoride Wf6 Gas
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CVD 표면 처리 응용 프로그램에서의 전구 가스, 실린더 가스 텅스텐 헥사플루오라이드
MOQ: 1개
가격: US $ 15/PC
표준 포장: 실린더/탱크
배송 기간: 15일
결제 방법: L/C, T/T
공급 능력: 연간 200 톤
상세 정보
원래 장소
중국
브랜드 이름
CMC
인증
COA
모델 번호
Wf6
제품 이름:
육불화텅스텐
수송:
선편으로 발송해 주세요
도트 클래스:
2.3
순수성:
99.999%
모델 번호:
육불화텅스텐
운송 패키지:
해상 수송
사양:
10L/15kg
상표:
CMC
원산지:
스초우, 중국
CAS 번호:
7783-82-6
방식:
Wf6
EINECS:
232-029-1
요소:
산업용 순수 공기
등급기준:
공업적 등급
화학적 특성:
연소 지원 가스
사용자 정의:
가능 | 맞춤형 요청
최소 주문 수량:
1개
가격:
US $ 15/PC
포장 세부 사항:
실린더/탱크
배달 시간:
15일
지불 조건:
L/C, T/T
공급 능력:
연간 200 톤
강조하다

CVD 표면처리 전기 가스

,

실린더 가스 텅프렌 헥사플루오라이드

,

텅프렌 헥사플루오라이드 전기 가스

제품 설명

CVD 표면 처리 응용 프로그램의 전구 가스 울프렌 헥사플루오라이드

텅스텐 헥사플루오라이드 (WF6) 는 텅스텐 원자 1개와 플루오린 원자 6개로 구성된 화학 화합물이다. 무색, 부식성 기체로 날카로운 냄새가 있다.텅프렌 헥사플루오라이드는 반응성이 매우 높고 물이나 공기 안의 수분과 격렬하게 반응할 수 있습니다.독성 수소 플루오라이드 가스를 방출합니다.

울프스탄 헥사플루오라이드의 응용 분야는 반도체 제조 공정에서 울프스탄 필름을 퇴적하는 전초 물질로 사용하는 것을 포함한다.그것은 일반적으로 화학 증기 퇴적 (CVD) 기술에서 다양한 응용을위한 텅스텐의 얇은 필름을 만드는 데 사용됩니다., 예를 들어 통합 회로 제조 및 얇은 필름 코팅. 텅스텐 헥사플루오라이드는 높은 증기 압력으로 인해 이러한 프로세스에서 선호되며 효율적인 퇴적을 허용합니다.

그러나 울프레멘 헥사플루오라이드를 반응성과 독성성 때문에 조심스럽게 취급하고 보관하는 것이 중요합니다. 적절한 안전 조치,적절한 보호장비와 처리 절차를 사용하는 것을 포함합니다.이 화합물과 함께 작업 할 때 준수해야합니다.

기본 정보
제품의 COA:
 
테스트 항목 단위 품질 요구 사항 시험 결과
CF4 ppm <0.5 <0.01
O2 ppm <0.5 <0.01
N2 ppm < 1 0.03
CO ppm <0.5 <0.02
CO2 ppm <0.5 <0.01
SiF4 ppm <0.5 <0.1
SF6 ppm <0.5 <0.1
HF ppm <5 0.19
ppb ≤10 <0.020
그 외 ppb ≤10 <0.001
B ppb ≤10 <0.005
CA ppb ≤5 <0.200
Cd ppb ≤2 <0.001
Cr ppb ≤10 <0.020
ppb ≤10 <0.007
K ppb ≤5 <0.100
ppb ≤10 <0.001
ppb ≤5 <0.040
제3회 ppb ≤0.1 <0.001
ppb ≤10 <0.002
ppb ≤10 <0.002
U ppb ≤0.05 <0.001
Zn ppb ≤10 <0.005
ppb ≤10 <0.100
Pb ppb ≤10 <0.001
P ppb ≤2 <0.300
Mg ppb ≤10 <0.020
ppb ≤20 <0.030
ppb ≤5 <0.005
ppb ≤10 <0.001
다른 금속의 누적 불순물 ppb ≤ 500 <0.0010
제품 사양:

텅프렌 헥사플루오라이드 WF6 가스
CAS 번호: 7783-82-6
EINECS 번호: 232-029-1
UN 제2196
순수: 99.999%
점급: 2.3
외형: 무색
등급 표준: 전자 등급,산업 등급

자세한 사진
                                   CVD 표면 처리 응용 프로그램에서의 전구 가스, 실린더 가스 텅스텐 헥사플루오라이드 0
 
회사 프로파일

Semiconductor Industry Electronic Grade Wf6 Tungsten Hexafluoride Wf6 Gas

상하이 케미케 화학 회사, Ltd는 훈련 된 인력으로 구성되어 있으며, 가스 산업에서 오랜 경험을 결합합니다. 우리는 실린더 가스, 전자 가스 등을 공급하고 있습니다.밸브 및 픽팅 및 기타 장비, 부품 및 엔지니어링 서비스를 중국 및 전 세계 우리의 고객에게; 제품은 반도체 칩, 태양전지, LED, TFT-LCD, 광섬유,유리, 레이저, 의약품 등, 우리의 임무는 혁신적인, 신뢰할 수 있고 안전한 지원, 솔루션 및 품질 제품을 제공하기 위해 글로벌 고객과 파트너십을 맺는 것입니다.
우리의 제품은 주로: H2, O2, N2, Ar, CO2, 프로판, 아세틸렌, 헬륨, 레이저 혼합 가스, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, 도핑 혼합 가스 (TMB, PH3,B2H6) 및 기타 전자 가스.
Semiconductor Industry Electronic Grade Wf6 Tungsten Hexafluoride Wf6 Gas
Semiconductor Industry Electronic Grade Wf6 Tungsten Hexafluoride Wf6 Gas
 
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